글로벌 반도체 장비 기업인 ASML이 국내 기업들과 시너지 확충 속도를 낸다. 경기도 화성에 약 2400억원을 투자해 뉴 캠퍼스를 조성하면서다. 극자외선(EUV) 장비를 독점 생산하는 ASML이 한국에 대규모 투자를 단행하면서 국내 반도체 기업이 향후 유리한 위치를 점하게 됐다는 분석이 나온다.
ASML은 15일 서울 삼성동 인터콘티낸탈호텔에서 화성 뉴 캠퍼스 기공식에 앞서 기자간담회를 열었다. 오는 16일에는 경기도 화성에서 뉴 캠퍼스 기공식을 진행한다. 뉴 캠퍼스는 앞서 지난해 11월 화성시, 경기도와 업무협약(MOU)을 맺은 데 따른 것으로 공식 입주 예정일은 2024년 12월이다.
화성 뉴 캠퍼스는 재제조센터를 비롯해 글로벌 트레이닝 센터, 익스피리언스 센터(체험관) 등이 조성된다. 해당 건물은 태양열 전지를 사용해 에너지 자립도를 높이고, 산업 시설임에도 오·폐수와 매연을 배출하지 않는 등 친환경적인 특성을 살린다는 게 회사 측 설명이다.
이날 기자간담회에서는 향후 한국 반도체 기업과의 시너지 창출에 대한 기대감이 나왔다. 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO)는 “(반도체 산업의) 복잡성이 높아지면서 당연히 고객과의 협력이 더욱 중요해졌다”며 “트레이닝 센터도 짓는 등 다시 말해 기술이 저희 고객에게 더 가까이 있다는 것이며 이는 한국 시장에 매우 의미 있는 일”이라고 말했다.
그러면서 재제조센터 관련해서는 한국 고객사에 ESG(환경·사회·지배구조) 경영 측면에서 많은 기여를 할 수 있을 것이라고 내다봤다. 재제조센터를 통해 과거에는 폐기하던 부품을 다시 활용할 수 있기 때문이다. 한국 시장 내 직접 클러스터를 두는 만큼 시의적절한 때 고객사의 니즈를 충족할 수 있다는 의미다.
베닝크 CEO는 “앞으로 한국에서의 협력사 기반이 더욱 확대할 것으로 보이고, 한국은 이런 협력사를 찾기에 매우 우수한 나라라고 생각한다”며 “한국에 있는 많은 협력사와 시너지 효과를 창출할 수 있을 것”이라고 강조했다.
이어 최근 미국의 대중 수출 규제 관련 영향 질문에는 매출의 약 5% 정도가 줄었다고 밝혔다. 앞서 미국 정부는 지난달 중국으로 반도체 기술이나 장비의 수출을 통제하는 조치를 발표한 바 있다. 이에 ASML도 중국 현지에 있는 공장에서 당사 직원을 모두 철수시킨 상태다.
아울러 차세대 노광 장비인 하이 NA EUV의 생산 로드맵도 발표했다. 하이 NA EUV는 일반 EUV보다 미세한 회로를 그릴 수 있는 ASML의 장비로서 최근 이를 확보하기 위한 반도체 기업 간 물밑 경쟁이 치열한 것으로 전해졌다.
첫 하이 NA EUV는 2024년 출하될 예정으로 2026년, 2027년경에는 주요 반도체 기업들의 대량 생산에 활용될 전망이다. 가격은 한 대당 3억 유로(약 4084억원)로 책정될 것으로 보인다. 베닝크 CEO는 “하이 NA 덕분에 향후 10년간 ASML이 무어의 법칙을 지속할 수 있을 것으로 예상된다”고 밝혔다.
ASML은 15일 서울 삼성동 인터콘티낸탈호텔에서 화성 뉴 캠퍼스 기공식에 앞서 기자간담회를 열었다. 오는 16일에는 경기도 화성에서 뉴 캠퍼스 기공식을 진행한다. 뉴 캠퍼스는 앞서 지난해 11월 화성시, 경기도와 업무협약(MOU)을 맺은 데 따른 것으로 공식 입주 예정일은 2024년 12월이다.
화성 뉴 캠퍼스는 재제조센터를 비롯해 글로벌 트레이닝 센터, 익스피리언스 센터(체험관) 등이 조성된다. 해당 건물은 태양열 전지를 사용해 에너지 자립도를 높이고, 산업 시설임에도 오·폐수와 매연을 배출하지 않는 등 친환경적인 특성을 살린다는 게 회사 측 설명이다.
이날 기자간담회에서는 향후 한국 반도체 기업과의 시너지 창출에 대한 기대감이 나왔다. 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO)는 “(반도체 산업의) 복잡성이 높아지면서 당연히 고객과의 협력이 더욱 중요해졌다”며 “트레이닝 센터도 짓는 등 다시 말해 기술이 저희 고객에게 더 가까이 있다는 것이며 이는 한국 시장에 매우 의미 있는 일”이라고 말했다.
베닝크 CEO는 “앞으로 한국에서의 협력사 기반이 더욱 확대할 것으로 보이고, 한국은 이런 협력사를 찾기에 매우 우수한 나라라고 생각한다”며 “한국에 있는 많은 협력사와 시너지 효과를 창출할 수 있을 것”이라고 강조했다.
이어 최근 미국의 대중 수출 규제 관련 영향 질문에는 매출의 약 5% 정도가 줄었다고 밝혔다. 앞서 미국 정부는 지난달 중국으로 반도체 기술이나 장비의 수출을 통제하는 조치를 발표한 바 있다. 이에 ASML도 중국 현지에 있는 공장에서 당사 직원을 모두 철수시킨 상태다.
아울러 차세대 노광 장비인 하이 NA EUV의 생산 로드맵도 발표했다. 하이 NA EUV는 일반 EUV보다 미세한 회로를 그릴 수 있는 ASML의 장비로서 최근 이를 확보하기 위한 반도체 기업 간 물밑 경쟁이 치열한 것으로 전해졌다.
첫 하이 NA EUV는 2024년 출하될 예정으로 2026년, 2027년경에는 주요 반도체 기업들의 대량 생산에 활용될 전망이다. 가격은 한 대당 3억 유로(약 4084억원)로 책정될 것으로 보인다. 베닝크 CEO는 “하이 NA 덕분에 향후 10년간 ASML이 무어의 법칙을 지속할 수 있을 것으로 예상된다”고 밝혔다.