삼성전자 시설투자 46.2조원, 사상 최대···전년比 20.7조원 증가

삼성전자는 올해 시설투자 규모는 총 46조2000억원으로 역대 사상 최대 규모에 달할 것이라고 31일 발표했다.

이는 지난해 25조5000억원 대비 20조7000억원(81.2%) 증가한 것으로, 기존 사상 최대 규모였던 2015년 25조5200억원도 넘어선 것이다.

사업별로는 반도체 29조5000억원, 디스플레이 14조1000억원 수준이다.

삼성전자는 3분기 시설투자는 10조4000억원이며 반도체에 7조2000억원, 디스플레이에 2조7000억원이 투자됐다고 전했다. 3분기깢 누적으로는 32조9000억원이 집행됐다.

관련기사

• 고동진 삼성전자 사장, “갤노트7 보상, 유통업계 얘기 들을 것”
• 삼성전자, 세계 혁신기업 6위... R&D 투자액은 4위

메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있으며, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다.

디스플레이의 경우는 플렉서블 유기발광다이오드(OLED) 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행중이다.

삼성전자는 4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며, 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이라고 전했다.