방사광 이용 고효율 나노패턴 기술개발

포스텍 포항가속기연구소 황찬국 박사

(아주경제 권석림 기자) 국내 연구진이 반도체 등에 중요한 나노 패턴 조작과 관련해 방사광가속기 극자외선을 이용한 새 기술을 획기적으로 향상시켜 반도체 소자 등 각종 디바이스에 실제 적용될 수 있을 것으로 전망된다.

교육과학기술부는 포스텍 포항가속기연구소(PAL) 황찬국 박사팀이 극자외선을 이용, 집적도 높은 반도체 생산이 가능한 '펜타센 나노패턴' 기술을 개발하는 데 성공했다고 29일 밝혔다.

연구진은 펜타센 분자가 극자외선에 의해 상호결합이 일어난다는 사실을 확인하고 이를 이용해 나노미터(㎚ㆍ10억분의 1ｍ) 크기에서 높이와 폭의 조절이 가능한 30㎚ 분자 패터닝에 성공했다.

펜타센(Pentacene)은 다섯 개의 벤젠 분자가 붙어있는 방향족 고리 화합물로, 전하의 높은 이동도 때문에 유기 반도체용 소재로 각광받고 있다.

이번에 개발된 펜타센 나노패턴 기술은 진공상태에서 성장된 펜타센 분자막을 사용함으로써 보다 깨끗하고 안정성이 크며 패턴 제작 과정에서 잔류물이 거의 없어 친환경적이다.

또한 미세패턴의 폭, 너비 조절이 가능해 이를 잘 활용하면 10nm까지 제작할 수 있어 집적도 높은 반도체 생산도 가능하며 향후 메모리, 태양전지, 광학장치, 센서 등 각종 디바이스의 집적도 및 효율을 높이는 데 응용될 수 있을 것으로 기대된다.

이번 연구성과는 미국 화학회에서 발행하는 나노 분야의 세계적인 권위지 '에이씨에스 나노(ACS Nano)' 9월호에 게재된다.

[e-mail]
[아주경제 ajnews.co.kr] 무단전재 배포금지