KIST 연구팀, 퀀텀닷 패터닝 기술 개발...고해상도 양자점 화소 제작 가능

 

아주경제 신희강 기자 = 국내 연구진이 새로운 양자점 패터닝 기술로 대규모 고해상도 퀀텀닷 장치 제작에 실용적이고 비용이 적게 드는 방법을 제시했다.

23일 한국과학기술연구원(KIST)에 따르면 나노포토닉스연구센터의 한일기 박사, 박준서 연구원팀은 기존 반도체 공정법을 활용한 대면적 미세 퀀텀닷(QD) 패턴 형성 기술을 개발했다.

연구진은 기존 반도체 미세 패턴 형성기술인 노광(포토리소그래피) 공정을 활용해 다색 퀀텀닷 미세 패턴 형성 기술을 최초로 개발, 기술을 활용해 패턴된 전기구동 퀀텀닷 발광 소자를 구현하는데 까지 성공했다.

디스플레이 업계에서는 퀀텀닷 자체가 각 색상을 발광하는 진정한 의미의 퀀텀닷 디스플레이는 구현하지 못하고 있다. LCD 디스플레이 기술은 액정 표시 장치의 자체 두께로 인해 얇게 만드는데 한계가 있고 또한 유연하거나 투명한 디스플레이 등에 응용하기 어렵다는 문제가 있기 떄문이다.

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연구진은 이번 개발된 기술이 대면적 전자소자 공정에도 활용되는 기술임에 따라 공정 난이도가 낮고, 공정당 퀀텀닷 소모량이 적다는 점에서 공정비용을 줄일 수 있다고 밝혔다. 향후 다양한 퀀텀닷 기반 소자 개발에 필요한 패턴기술의 대안이 될 수 있을 것이라 기대하고 있다.

KIST 관계자는 "기존 반도체 공정 기술을 다색 퀀텀닷 패턴 형성에 응용할 수 있다는 점에서 차별점이 있으며, 활용성이 높아 퀀텀닷 기반 소자 개발에 도움이 될 것"이라며 "향후 AMOLED에 들어가는 유기물을 퀀텀닷으로 대체한 고해상도 디스플레이나 다파장 퀀텀닷 기반 광센서 등의 분야로 확장될 수 있는 기술"이라고 말했다.

이번 연구는 미래창조과학부 미래유망융합기술 파이오니어사업 스펙트럼제어 융합연구단 지원을 통해 수행됐다. 연구결과는 나노 분야 국제학술지인 ‘Nano Letters’(IF:13.779)에 11월 9일자 최신호에 게재됐다.