아주경제 배인선 기자 =최근 미국 정부가 중국인 기업가를 산업스파이 혐의로 기소하면서 미·중 양국간 산업 스파이 문제가 재차 수면위로 떠올랐다.

미국 연방 검찰 및 연방수사국(FBI)은 최근 중국계 기업인이자 화공 전문가 황시원(黃錫文, 55)을 개인 및 중국 기업의 사리를 위해 미국 상업기밀을 빼낸 혐의로 기소했다고 홍콩 명보(明報)가 6일 보도했다.

검찰 측은 황이 미국 앨라베마주 오번대학교에서 화학공학과 박사를 마치고 미국 국적 취득후 미국 내 정부기관이나 기업에서 십 여 년간 근무하며 대량의 군용·상업 기밀을 중국으로 빼돌렸다고 밝혔다. 2014년 3월 근무하던 기업으로부터 기밀을 빼돌린 사실이 적발돼 해고당한 후 귀국해 중국 모 기업에서 고위관리직으로 근무해왔다고 검찰은 주장했다.

이에 대해 중국 관영 신화통신은 검찰 측이 황이 십 여년전 박사 입학신청 당시에 쓴 자기소개서에서 ‘더 많은 선진기술을 공부해 조국에 보답하는 게 꿈’이라고 언급한 문장을 범행 동기로 제시했다고 꼬집기도 했다.  이는 중국 유학생들의 자기소개서에 등장하는 전형적인 문구로 범행동기 증거로 적합하냐는 것. 

황은 지난 2일 노스캐롤라이나주에서 열린 청문회에서 산업 스파이 혐의를 인정한 것으로 전해졌다.  미국 내 산업스파이 행위에 대해서는 최고 징역 10년형과 벌금 25만 달러의 형을 받게 된다. 

사실 미·중국 양국간 산업 스파이 문제가 발생한 것은 이번이 처음이 아니다.

바로 지난 5월에도 미국이 현직 교수를 포함한 중국인 6명을 핵심 휴대폰 기술관련 정보를 중국 쪽에 넘긴 혐의로 기소했다. 이에 미국 정부가 이들이 중국 정부의 사주를 받아 산업 스파이 활동을 한 것으로 판단해 기소하자 중국 정부는 '엄중한 우려'를 표한 바 있다. 

미중간 산업 스파이 문제로 양국간 갈등이 고조되자 지난 달 미국을 방문한 시진핑(習近平) 중국 국가주석은 버락 오바마 대통령과 사이버공간에서 기업 관련 정보를 훔치는 등 산업 스파이 활동을 벌이지 않기로 합의하기도 했다. 

당시 시 주석은 "상업적 목적의 사이버 공격이나 정부 네트워크 해킹은 법과 관련 국제 조약에 따라 처벌 받아야 하는 범죄행위”라면서 중국은 이 같은 행위에 가담하지 않을 것이며, 이런 일에 참여하는 것도 용인하거나 방조하지 않을 것”이라고 강조했다.