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[자료= 특허청 제공]
특허청은 한·미 특허청이 이달부터 특허 공동심사(CSP) 2차 시범사업을 시행한다고 9일 밝혔다.
CSP는 우리나라와 미국에 같은 발명이 출원된 경우 특허여부를 판단하는데 필요한 선행기술 정보를 양국 심사관들이 공유하고, 다른 출원 건보다 빠르게 심사해 주는 제도다.
1차 시범사업은 올해 8월 말까지 2년 간 진행됐으며, 이 기간 동안 국내외 기업으로부터 112건(국내 77건, 국외 35건)이 신청됐다. 심사 처리기간은 평균 7.5개월로 일반심사에 비해 3.5개월 단축됐고, 특허 등록률은 84.4%로 일반심사 건 대비 25.2%포인트 높았다.
이번 2차 시범사업에서는 신청요건이 엄격하다는 의견을 반영, 출원인의 불편 사항을 개선한다는 계획이다.
CSP 신청 시 대표 발명만이 동일하도록 신청요건을 완화했다. 기존에는 양국이 CSP를 통해 공유한 선행기술 정보임에도 출원인이 이를 미국에도 제출해야 하는 부담이 있었지만, 절차를 간소화하기로 했다.
특허청 관계자는 "향후 특허청은 국내 기업이 다른 국가에서도 편리하게 해외특허를 확보할 수 있도록, 중국 등 주요국과 CSP를 확대할 계획이다"고 말했다.