[컨콜] 삼성전자 "업계 최고 EUV 기반 공정기술 확보할 것"
2020-01-30 11:44
삼성전자는 30일 2019년 4분기 컨퍼런스콜에서 "메모리 업계에서 가장 경쟁력 있는 극자외선(EUV) 기반 공정기술을 확보할 것"이라고 밝혔다.
이어 "EUV를 10나노급 D램에서 테스트했고, 1z나노부터 적용 중"이라며 "이미 파운드리에서 EUV를 활용해 양산 중이기 때문에 상당수준의 노하우를 쌓고 있다"고 덧붙였다.
또 "(EUV를 활용하면) 저전력·고성능 제품 개발과 동시에 지속적인 원가절감 달성이 가능하다"며 "적용규모를 확대해 원가경쟁력을 확보해 나가겠다"고 말했다.
이어 "EUV를 10나노급 D램에서 테스트했고, 1z나노부터 적용 중"이라며 "이미 파운드리에서 EUV를 활용해 양산 중이기 때문에 상당수준의 노하우를 쌓고 있다"고 덧붙였다.
또 "(EUV를 활용하면) 저전력·고성능 제품 개발과 동시에 지속적인 원가절감 달성이 가능하다"며 "적용규모를 확대해 원가경쟁력을 확보해 나가겠다"고 말했다.