SK하이닉스, ‘우수특허 연구자’ 5명 포상…신기술 개발 장려
2021-12-03 10:47
2013년부터 매년 포상식…올해는 코로나19로 직접 방문·상패 전달
SK하이닉스가 우수특허를 개발한 연구자를 격려하며 신기술 개발에 가속도를 내고 있다.
SK하이닉스는 제9회 산학연구과제 우수발명 포상식을 열었다고 3일 밝혔다. 수상자는 △최우수상 이호준 부산대 교수 △우수상 노삼혁 울산과학기술원 교수 △장려상 박찬혁 이화여대 교수·노원우 연세대 교수·전정훈 성균관대 교수 등 총 5명이다.
이호준 교수는 ‘이온 소스 헤드 및 이를 포함하는 이온 주입 장치’ 특허로 최우수상을 받았다. 이 특허는 고진공, 저유량에서도 고주파 플라스마(고체·액체·기체를 넘어선 제4의 상태)를 생성할 수 있어 기존 대비 플라스마 효율을 향상한다. 또 이온 소스 사용주기를 두 배 이상 개선해 비용 절감을 도와 기술적으로 높은 평가를 받았다.
SK하이닉스는 2013년부터 매년 포상식을 열고 있다. 산학협력 대학교가 연구과제 수행과정에서 출원한 특허 중 우수특허를 선별한다. 연구자의 사기를 북돋우고, 개발을 장려하기 위한 취지다.
한편 올해는 코로나19로 SK하이닉스 구성원들이 수상자 학교를 직접 찾아가 상패를 전하는 방식으로 포상식을 진행했다.
SK하이닉스는 제9회 산학연구과제 우수발명 포상식을 열었다고 3일 밝혔다. 수상자는 △최우수상 이호준 부산대 교수 △우수상 노삼혁 울산과학기술원 교수 △장려상 박찬혁 이화여대 교수·노원우 연세대 교수·전정훈 성균관대 교수 등 총 5명이다.
이호준 교수는 ‘이온 소스 헤드 및 이를 포함하는 이온 주입 장치’ 특허로 최우수상을 받았다. 이 특허는 고진공, 저유량에서도 고주파 플라스마(고체·액체·기체를 넘어선 제4의 상태)를 생성할 수 있어 기존 대비 플라스마 효율을 향상한다. 또 이온 소스 사용주기를 두 배 이상 개선해 비용 절감을 도와 기술적으로 높은 평가를 받았다.
SK하이닉스는 2013년부터 매년 포상식을 열고 있다. 산학협력 대학교가 연구과제 수행과정에서 출원한 특허 중 우수특허를 선별한다. 연구자의 사기를 북돋우고, 개발을 장려하기 위한 취지다.
한편 올해는 코로나19로 SK하이닉스 구성원들이 수상자 학교를 직접 찾아가 상패를 전하는 방식으로 포상식을 진행했다.
SK하이닉스가 제9회 산학연구과제 우수발명 포상식을 열고, (왼쪽부터) 하용수 SK하이닉스 특허개발기획 PL, 이호준 부산대학교 교수, 김준수 SK하이닉스 R&D전략기획 TL이 기념사진을 찍고 있다. [사진=SK하이닉스]