KRISS, 제9회 반도체 공정진단 워크숍 10일 개최
2015-12-09 10:57
[표=KRISS 제공]
아주경제 최서윤 기자 = 한국표준과학연구원(KRISS)이 10일 본원에서 제9회 반도체 공정진단 워크숍을 개최한다고 9일 밝혔다.
이번 워크숍의 주제는 '차세대 반도체 기술의 핵심인 실시간 공정 모니터링 및 분석 기술 개발'이다. 산·학 전문가 100여 명이 참석, 반도체 공정 및 장비 기술 자립화를 위한 정보를 공유한다.
우리나라 반도체 소자제조 기술은 세계 최고 수준의 경쟁력을 갖고 있다. 하지만 반도체 공정 및 장비를 실시간으로 모니터링하고 분석하는 진단기술은 여전히 취약한 실정으로 실시간 진단기술을 통해 수율향상을 이끌어내는 것이 중요하다.
윤주영 KRISS 진공기술센터 센터장은 "지난 9년 동안 반도체 공정진단 워크숍을 통해 국내 반도체 공정진단기술 관련 산·학 전문가들이 한자리에 모일 수 있었다"면서 "앞으로도 행사를 지속적으로 개최해 국내 반도체 기술 향상 및 장비 국산화를 이루는 데 기여할 것”이라고 말했다.
KRISS는 2007년부터 매년 반도체 공정진단 워크숍을 개최하고 있다.