SKI·SKIET, 차세대 탄소 포집 분리막 기술 개발..."가격↓·효율↑"
2024-10-01 10:47
연세대 연구팀과 공동연구 논문 국제 학술지 게재
경제성·성능 우수한 '유기물' 활용…상업화 기대
경제성·성능 우수한 '유기물' 활용…상업화 기대
SK이노베이션이 SK아이이테크놀로지(SKIET), 연세대학교 연구진과의 공동 연구를 통해 비용은 낮추고 성능은 획기적으로 높인 차세대 탄소 포집 분리막 기술을 개발해 냈다.
SK이노베이션은 1일 자사와 SKIET R&D센터, 연세대 화공생명공학 김종학 교수 연구팀이 공동 연구한 차세대 탄소 포집 분리막 연구논문이 국제 학술지 ‘저널 오브 멤브레인 사이언스(JMS)’에 게재됐다고 밝혔다.
JMS는 분리막 분야 최고 학술지로, 세계적 화학공학 연구진들의 논문을 게재하고 있다.
반면 이번 연구에서는 머리카락 굵기의 500분의 1 정도인 200nm 두께로 유기물을 고르게 코팅하는 박막 코팅 기술과 연구진이 독자 개발한 유기물 첨가제의 시너지 효과로 무기물 없이도 높은 투과도의 분리막을 제조하는 데 성공했다.
공동 연구진이 개발한 탄소 포집 분리막은 투과도가 높을 뿐만 아니라 제조 비용도 낮아서 대량생산과 상업화에 유리하다. 이번 연구 성과를 바탕으로 SK이노베이션은 SKIET와 탄소 포집 분리막 기술 개발을 가속화할 예정이다.