아주경제 신희강 기자 =한국과학기술연구소(KIST)는 양자응용복합소재연구센터 이상현 박사팀(노호균, 박미나 연구원)이 세계 최초로 그래핀을 활용한 금속 박막 제조 공정기술을 개발했다고 7일 밝혔다.

최근 각광받고 있는 탄소기반 신소재인 그래핀은 원자 한 층 두께인 약 2.3 옴스트롱의 두께와 높은 전기 전도도를 가지고 있다. 또한 화학적으로 매우 안정해 원자간 결합이 이뤄지지 않아 접착력이 매우 낮으며, 인체와 환경에 무해하기 때문에 전주도금 박리제로써 최적의 조건을 만족하고 있다.

KIST 연구팀은 이러한 그래핀을 몰드의 표면에 코팅한 후 그 그래핀 상에 전주도금을 진행하고, 박리를 통해 친환경적이고, 저비용으로 미세패턴 금속박막 제조에 성공했다.

새로운 공정기술로 만들어낸 그래핀이 코팅된 몰드는 박리 후에도 그래핀이 몰드에 완벽하게 남아있어 반 영구적인 사용이 가능하며, 수 마이크로 크기의 패턴도 완벽하게 구현해냈다.

또한 연구진은 본 기술을 활용하여 LED용 유연회로기판을 만들어 정상 작동하는 것을 확인했고, 이를 통해 유연한 특성을 가진 전자소자 부품으로 적용할 수 있는 가능성을 제시했다.

이상현 KIST 양자응용복합소재센터 박사는 “부가가치가 높은 매우 얇은 금속판 또는 미세한 패턴을 가진 금속을 만들기 위해서는 고비용이 소요되는데, 이번 성과를 활용하여 공정시간과 비용을 획기적으로 줄일 수 있을 것”이며 “전지용 전극소재 뿐만 아니라 미래의 전자소자용 부품 제조를 위한 원천기술로 다양한 분야에 접목이 가능할 것으로 보인다”고 말했다.

이번 연구결과는 나노분야 권위 있는 국제학술지인 'Nanoscale(IF : 7.76)'에 지난달 23일 온라인 게재됐으며, 7월호 표지논문(Back Cover Article)으로 게재됐다.